复材站
工艺装备中国已授权

多功能位阻胺光稳定剂

Ask AI about this
申请人巴斯夫欧洲公司
发明人E·梅诺兹
公开号CN105693698B
授权号CN105693698B
申请日2011-10-17
公开日2019-11-22
授权日2019-11-22

摘要

式(I)化合物,其中残基R 1 的一个或两个残基相互独立地为C 1 ‑C 20 烷氧基或C 3 ‑C 12 环烷氧基并且其余残基R 1 相互独立地为氢、C 1 ‑C 20 烷基或C 3 ‑C 12 环烷基;残基R 0 和R 2 相互独立地为氢、C 1 ‑C 20 烷基、C 3 ‑C 12 环烷基或式(II‑a)基团,其中R 3 为氢、C 1 ‑C 20 烷基、C 3 ‑C 12 环烷基、C 1 ‑C 20 烷氧基或C 3 ‑C 12 环烷氧基;Y为C 2 ‑C 12 亚烷基;m为0或1;n为1、2或3;当n为1时,X为氢、C 1 ‑C 20 烷基、C 3 ‑C 12 环烷基或式(II‑a)基团;当n为2时,X为C 2 ‑C 12 亚烷基;当n为3时,X为基团N(Z‑) 3 ,其中Z为C 2 ‑C 12 亚烷基。

相关专利

← 返回专利库整理:复材站编辑部